三星mass生产业界首个3D NAND闪存芯片

3D flash技术为下一代1Tbit芯片奠定了基础

三星电子今天宣布,它已开始批量生产业界第一款三维垂直NAND闪存,通过当前的缩放比例限制为现有的NAND闪存技术打破。

三星电子(Samsung Electronics)周一表示,该公司正在大规模生产一种芯片,这种芯片将存储数据的硅层堆叠起来,就像一座微型摩天大楼,在不久的将来创造出不可否认的NAND闪存技术。

这一举动让三星拥有了业界第一,三维(3D)垂直NAND (V-NAND)闪存,突破了目前二维或平面NAND的伸缩限制。

一旦用于创建嵌入式内存和固态硬盘,三星的V-NAND将“根据客户的需求。”夸容量从128GB到1TB,

“在未来,他们可以去比相当高,”史蒂夫Weinger,三星半导体NAND市场总监说。

目前在平面NAND上存储数据的细胞最密集的过程是在10纳米到19纳米之间。为了让大家知道纳米有多小,一纳米是一米的十亿分之一——一根头发比用25nm制程技术制成的NAND闪存要厚3000倍。一英寸有2500万纳米。

三星表示,3D NAND技术在面积比和性能两方面都取得了进展。新的3D V-NAND将被广泛用于消费电子产品和企业应用,包括嵌入式NAND存储和固态硬盘(ssd)。

三星的新V-NAND在单个芯片上提供了128位的密度,与之相同现在生产的英特尔(Intel)和美光科技(Micron)等平面NAND技术公司。

然而,三星的V-NAND使用基于3D电荷阱Flash (CTF)技术的电池结构和垂直互连处理技术来连接3D电池阵列。通过应用后一种技术,三星的3D V-NAND可以提供超过20nm级平面NAND闪存两倍的缩放。

三星新V-NAND宣布的最重要的技术成就之一是专有的垂直互连工艺技术,可以垂直堆叠多达24层电池层,使用特殊的蚀刻技术,通过从最高层到底部穿孔电子连接电池层。

分析师称,目前还不清楚3D NAND存储器中电池层堆叠的限制是什么。

“现在是24。下一代可能是32岁。市场研究公司Forward Insights的创始人和首席分析师Gregory Wong说。“房地产保持不变,但你可以不断增加水平。而且,通过增加级别,你可以降低每比特的成本,因为内存单元更多了,但存储它们的空间不会增加。”

随着新的垂直结构,三星可以通过增加所述3D细胞层,而不必继续平面缩放,这已成为非常困难的,以实现使更高密度NAND闪存产品。作为该过程成为平面NAND闪存技术小,电子越来越经常通过更薄细胞壁创建数据错误泄漏,需要不断日益复杂的纠错码。

但是3D NAND也有它的局限性,据Wong说,它有望在这个十年结束时达到这一水平。

“对于3D NAND来说,就像摩天大楼,一旦你达到一定的水平,它就会变得太昂贵。一段时间后就没有成本效益了。你只能建造这么高的摩天大楼,”他说。

目前,其他技术,如电阻式随机存取存储器(RRAM),赛道存储器,石墨烯记忆与相变存储器已被视为未来的竞争者NAND闪存。在3D NAND闪存,基板的各层需要一个电介质或电绝缘体。目前,电介质材料为50nm。使其较厚可能放缓导致内存性能动摇的电子流。使得它太薄会引起电损耗,就像在平面闪光灯,从而引入数据错误。

Wong说:“缩减拨号是非常困难的,所以要在可靠性上做出权衡。”“这是设备中所有材料之间的平衡。你需要在性能和可靠性之间找到正确的平衡。”

三星表示,该公司花了近10年时间研发3D Vertical NAND闪存,目前在全球有300多项3D存储技术正在申请专利。该公司表示,其3D技术为更先进的产品奠定了基础,其中包括一台terabit (Tb) NAND闪存芯片。

“新的3D V-NAND闪存技术是我们的员工多年的努力,超越常规思维推动的结果,并寻求在内存半导体的设计技术克服的局限性更加创新的方法,”郑赫财说,高级副总裁,闪存产品及技术,三星电子等。“继全球首款量产的3D垂直NAND的,我们将继续推出3D V-NAND产品具有更好的性能和更高的密度,这将有助于全球内存产业的进一步发展。”

在过去的40年中,传统闪存已经基于该利用浮栅的平面结构。随着制造工艺技术进行到10nm的级及以后,关心比例的限制出现了,由于细胞与细胞间的干扰导致的权衡中的NAND闪存产品的可靠性。这也导致增加开发时间和成本。

三星新推出的V-NAND解决了在电路结构实现新的创新水平和生产通过了新的3D结构的平面细胞层的垂直叠加已成功开发流程,技术挑战。

为此,三星对其2006年首次开发的CTF架构进行了改进。三星基于ctf的NAND闪存架构暂时将电荷放入由氮化硅(SiN)组成的闪存非导电层的保持室,而不是使用浮动栅来防止相邻电池间的干扰。

通过使该层CTF三维,NAND存储器的可靠性和速度大幅提高。新的3D V-NAND节目不仅到最大10X更高的可靠性的增加最小2X的,而且比传统的10纳米级的浮栅NAND快闪存储器的写入性能的两倍。

根据IHS iSuppli的数据,预计到2016年底,全球NAND闪存市场的收入将从2013年的约236亿美元增至约308亿美元,年增长率为11%。

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